膜厚量測儀 FE-300

產品簡介
薄膜到厚膜的測量范圍

UV~NIR光譜分析高性能的低價光學薄膜量測儀

藉由絕對反射率光譜分析膜厚

完整繼承FE-3000高gao端機種90%的強大功能

無復雜設定，操作簡單

產品型號：

更新時間：2025-12-24

廠商性質：生產廠家

訪問量：1402

產品咨詢 18117546256

產品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

光譜系統

光探測磁共振譜超快瞬態吸收拉曼光譜熒光光譜顯微缺陷膜厚半導體晶圓缺陷檢測儀高光譜測試系統太陽能電池量子效率太陽光模擬器IV系統顯微光電流成像系統探測器光響應度系統光譜變溫附件探針臺熒光系統組合熒光系統鏡頭透過率測試系統漫反射率測試系統反射、吸收率系統成像亮度計標準燈參考輻射定標電致發光系統常規發射光譜系統共聚焦拉曼光譜儀

詳細介紹在線留言

產品信息

特殊長度

●支持從薄膜到厚膜的各種薄膜厚度

●使用反射光譜分析薄膜厚度

●實現非接觸、非破壞的高精度測量，同時體積小、價格低

●簡單的條件設置和測量操作！任何人都可以輕松測量薄膜厚度

●通過峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法、優化法等，可以進行多種膜厚測量。

●非線性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以進行光學常數分析（n：折射率，k：消光計數）。

測量項目

絕對反射率測量

膜厚分析（10層）

光學常數分析（n：折射率，k：消光計數）

測量對象

功能膜、塑料
透明導電膜（ITO、銀納米線）、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合劑、膠粘劑、保護膜、硬涂層、防指紋，等等。

半導體
化合物半導體、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、藍寶石等。

表面處理
DLC涂層、防銹劑、防霧劑等。

光學材料
濾光片、增透膜等。

FPD
LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有機膜、封裝材料）等

其他
HDD、磁帶、建筑材料等

原理

測量原理

大冢電子利用光學干涉儀和自有的高精度分光光度計，實現非接觸、無損、高速、高精度的薄膜厚度測量。光學干涉測量法是一種使用分光光度計的光學系統獲得的反射率來確定光學膜厚的方法，如圖 2 所示。以涂在金屬基板上的薄膜為例，如圖1所示，從目標樣品上方入射的光被薄膜表面（R1）反射。此外，穿過薄膜的光在基板（金屬）和薄膜界面（R2）處被反射。測量此時由于光程差引起的相移所引起的光學干涉現象，并根據得到的反射光譜和折射率計算膜厚的方法稱為光學干涉法。分析方法有四種：峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法和優化法。

膜厚量測儀 FE-300

規格

類型	薄膜型	標準型
測量波長范圍	300-800nm	450-780nm
測量膜厚范圍（SiO ₂換算）	3nm-35μm	10nm-35μm
光斑直徑	φ3mm / φ1.2mm
樣本量	φ200×5（高）mm
測量時間	0.1-10s內
電源	AC100V ± 10% 300VA
尺寸、重量	280 (W) x 570 (D) x 350 (H) 毫米，24 公斤
其他	參考板，配方創建服務